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操控熱處理首要是為了防止氧化和脫碳, 并精確操控 滲碳和滲氮。依據用戶要求,可提供各種價格適中,樣式多樣,可控氣氛爐功能優秀的產品。它們中的大多數能夠精確地優化,猜測和操控碳濃度的散布,并取得抱負的濃度散布和浸透層結構;經過簡單的菜單設計和友愛的人機界面即可完成計算機辦理。
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真空爐是在真空環境中進行加熱的設備,一般由爐膛、電熱裝置、密封爐殼、真空體系、供電體系和控溫體系等組成。真空爐按加熱元件分為真空電阻爐、真空感應爐、真空電弧爐、真空自耗電弧爐、電子束爐和等離子爐等。真空爐一般在春秋時節泄漏故障較多,長時刻閑置的真空爐在才次運用時真空爐泄漏故障比較易發生。這時刻就必須進行真空檢漏,真空檢漏一般采取每月一次測壓升率(在常溫下,封閉所有真空閥,中止真空體系工作,1Omin后讀一個數,1h后再讀一個數,兩數之差是壓升率的數值),把握設備泄漏改變趨勢,如真空設備接連停機一個禮拜,要空工作一次(進行烘爐)。
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真空熱處理爐溫控體系采用智能溫控外表,溫控精度為百分之零點一,根據產品工藝曲線,編制了計算機操控程序,對真空爐的升溫、保溫、冷卻進程和溫控外表的運轉進行操控,停止PC機的自動操控,完成進程曲線溫度操控的技術要求
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裝料時,要確保平穩,以防工件跌落;料盤要定位準確,以免料盤和加熱室相撞,嚴禁真空爐超載運轉。
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真空分為物理真空和工業真空兩種。物理真空是指沒有任何粒子存在的空間,工業真空是指氣壓比一標準大氣壓小的氣體空間,是指淡薄的氣體狀態,一般是用特殊的抽氣機得到真空的。真空爐的真空屬于工業真空。
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1、石墨反射屏:一般在真空爐上運用的有硬氈和軟氈兩種,適用于一般鋼材的真空淬火、回火、退火。高溫釬焊、粉末冶金和燒結等。
2、金屬隔熱屏:一般在真空爐上運用的有不銹鋼和鉬兩種。鉬反射屏適用于高溫、對爐內環境要求較高的資料的(如:高溫合金、鈦合金、磁性資料等)淬火、退火、高溫釬焊、燒結等。不銹鋼飯射屏適用于回火、低溫退火、時效、真空鋁釬焊等,一些低溫爐型的挑選。
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1、要避免熱處理產品,特別足銅、鋁、鋅、錫、鉛等與電加熱元件接觸,無論是細粉、熔液或蒸汽等,避免在電加熱體外表腐蝕構成“麻坑”,截面變小,最終過熱而燒斷。
2、測驗爐溫均勻性時,應留意測溫觸點的定位綁縛方式,以及離加熱元件的遠近。